要想鍍出堅固的鈦層，首先要有好的設備。因為在鍍膜過(guò)程中，真空系統必需要工作穩定，爐體保壓要好，如果在鍍膜過(guò)程中有雜氣摻入，顏色就會(huì )不理想，嚴重的還會(huì )脫鈦。好的設備弧源離化率高，形成的離子密度大，大顆粒少，鍍出的膜層光滑度高，磨擦系數小，堅固不脫落，差的設備離化率低，鍍出來(lái)的膜層粗糙沒(méi)光澤，容易刮花脫落。

與之對應的化學(xué)氣相沉積(ChemicalVaporDepsition)簡(jiǎn)稱(chēng)為CVD技術(shù)。行業(yè)內通常所說(shuō)的“IP”(ionplatin離子鍍膜，是因為在PVD工藝技術(shù)中各種氣體離子和金屬離子參與成膜過(guò)程并起到重要作用，為了強調離子的作用，而統稱(chēng)為離子鍍膜。真空鍍膜是一種產(chǎn)生薄膜材料的技術(shù)。在真空室內材料的原子從加熱源離析出來(lái)打到被鍍物體的表面上。此項技術(shù)用于生產(chǎn)激光唱片(光盤(pán))上的鋁鍍膜和由掩膜在印刷電路板上鍍金屬膜。在真空中制備膜層，包括鍍制晶態(tài)的金屬、半導體、絕緣體等單質(zhì)或化合物膜。雖然化學(xué)汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段，但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜有三種形式，即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍.蒸發(fā)鍍膜通過(guò)加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面，稱(chēng)為蒸發(fā)鍍膜。

Hunter工藝的步，如今所知，包括加熱氯，焦炭和金紅石的混合物，在非常高的溫度下產(chǎn)生由（TiCl和二氧化碳組成的產(chǎn)物：TiO2（固體）+2Cl2（固體）+C（固體）→TiCl4+CO2（氣體）第二步是在700-800攝氏度的耐高溫鋼外殼中用液態(tài)鈉（Na）加熱前一步驟中的。在這個(gè)稱(chēng)為“還原”的過(guò)程中，通過(guò)鈉還原，得到99.9％純金屬鈦以及鹽（NaCl）